工業用融解および電極用途向けの高純度グラファイトるつぼ
グラファイトのるつぼは、アルミニウム、銅、金、銀の高温融解に最適です。真空および誘導炉に適しているため、熱の安定性と強力な耐薬品性を提供します。
説明
マーカー
基本的な説明
高純度の合成グラファイトを使用して設計されたグラファイトるつぼは、冶金、非鉄金属鋳造、誘導加熱システム、実験室分析などの高温産業で不可欠な成分です。グラファイト電極の生産に密接に関連しているこれらのるつぼは、極端な熱条件下で例外的な性能を提供するために、同様の基本材料（高密度炭素と細粒グラファイト）を活用しています。
材料組成と製造プロセス
グラファイトのるつぼは、主に等張りのグラファイト、振動成形グラファイト、または押し出しグラファイトを使用して生成され、それぞれが特定の最終用途要件に基づいて選択されます。これらの材料は、グラファイト電極生産で使用される原材料としばしば重複していますが、るつぼは酸化抵抗と純度の強化のためにさらに処理されます。
重要なプロパティ：
●高い熱衝撃耐性 - 構造障害なしに急速な温度変化に耐えます。
●優れた熱伝導率 - 均一な加熱と効率的なエネルギー移動を可能にします。
●化学物質の安定性 - 溶融金属やスラグからの腐食攻撃に抵抗します。
●熱膨張係数が低い - 最大3000°Cの寸法安定性を維持します（不活性または真空条件）。
●低い灰分 - 通常は0.1％以下で、半導体および太陽の用途では50 ppm未満の超高純度変異体があります。
技術仕様（典型的な範囲）
| パラメーター | 値範囲 |
| バルク密度 | 1.75 - 1.85 g/cm³ |
| 気孔率 | ≤12％ |
| 曲げ強度 | 20 MPa以上 |
| 圧縮強度 | 40 MPa以上 |
| 熱伝導率 | 100 - 160 w/m・k |
| 最大動作温度 | 最大3000°C（不活性/真空） |
| 穀物サイズのオプション | 微細（<10μm）から粗い（> 0.8 mm） |
産業用アプリケーション
1。金属融解と鋳造
誘導炉と抵抗加熱炉の両方で、アルミニウム、銅、金、銀、真鍮などの非鉄金属の製錬に使用されます。
2。真空および誘導炉
低い純度と高純度のため、真空焼結および中〜高周波誘導溶融アプリケーションで好まれます。
3。分析およびラボのテスト
化学分析、灰の試験、および汚染を最小限に抑える必要がある材料純度検証に不可欠です。
4。太陽および半導体産業
超高純度のるつぼは、シリコンインゴットのためにプルプルするCzochralski（CZ）クリスタルと半導体ウェーハ生産で使用されます。
5。グラファイト電極のサポート
大規模な電気弧炉（EAF）では、グラファイトのるつぼは、導電率と構造的サポートを向上させるために、底部または特殊な融解セットアップでグラファイト電極と組み合わせることがよくあります。
カスタマイズとCNCの機械加工
グラファイト電極とるつぼの専門メーカーとして、 - カスタムOD/IDサイズ、壁の厚さ、高さ - ±0.02 mmまでの精密耐性を備えたCNC加工 - 延長された酸性の存在のための酸化防止コーティング - 特殊な炉の統合のためのねじ込まったまたはフランジ付き端の端の形のグラファイト十字
私たちは、冶金、航空宇宙、化学工学、バッテリー、および太陽光発電部門のグローバルクライアントにサービスを提供しています。
まとめ
グラファイトのるつぼは、耐久性、導電率、純度が最も重要な熱応用を要求するために設計されています。グラファイト電極生産として同様の材料とプロセスを活用することにより、これらのるつぼは、臨界融解、鋳造、および精製環境の性能の安定性を確保します。当社は、世界中のクライアントに完全なカスタマイズ、迅速な生産、および技術サポートを提供しています。
仕様、サンプル、またはOEM/ODMの問い合わせについては、今すぐお問い合わせください。世界中の配達が利用可能です。
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